HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱用途

  二合一真空腔體帶來更低的成本、更高的效率和更可靠的工藝。的溫控、工藝時(shí)間和腔體尺寸控制系統(tǒng)讓您用更少的化學(xué)品，實(shí)現(xiàn)對沉積過程環(huán)境的掌控。

   智能型HMDS真空系統(tǒng)可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

有效的光刻膠處理是后續(xù)所有工藝步驟的基礎(chǔ)，只有被處理的表面才能準(zhǔn)確復(fù)制，避免蝕刻不足或邊緣粗糙。JS-HMDS系列真空系統(tǒng)可脫水晶圓，使HMDS 層附著力更強(qiáng)，即使暴露于大氣濕氣數(shù)周也能保持穩(wěn)定。

智能型HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn)

通過使用六甲基二硅氮烷（HMDS）對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、且成本效益高的硅烷化處理，有效增強(qiáng)了與光刻膠的粘合性。

真空鍍膜技術(shù)能脫水晶圓，確保了更強(qiáng)的粘接強(qiáng)度。

即便長時(shí)間暴露于潮濕的空氣中，HMDS層也能維持其穩(wěn)定性。

我們的控制系統(tǒng)支持用戶根據(jù)需要選擇溫度、處理時(shí)長及腔室尺寸。

此外，我們的技術(shù)還能降低化學(xué)物品的使用量和成本，實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)效益。

通過工藝處理，達(dá)到圖像反轉(zhuǎn)效果，解決了圖像反轉(zhuǎn)光刻膠的復(fù)雜性。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱參數(shù)

設(shè)備型號(hào)：JS-HMDS90AI                       

工作室尺寸（mm）： 450×450×450，650*650*650,可自定
材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或不銹鋼，內(nèi)箱采用316L級(jí)不銹鋼
溫度范圍：RT+10-200℃ 
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：≤±0.5
真空度：1torr
潔凈度：設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境
控制儀表：人機(jī)界面
擱板層數(shù)：2層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加量
真空泵：旋片式油泵或干泵
保護(hù)裝置:HMDS藥液泄漏報(bào)警裝置，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)