智能型HMDS涂膠機(jī)，自動(dòng)HMDS涂膠鍍膜機(jī)用途
  也稱為HMDS處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。 
  光刻膠的顯影液為水溶液時(shí)(使用正型光刻膠等時(shí))，必須進(jìn)行處理。 HMDS是六甲基二硅氮烷的簡(jiǎn)稱，它是通過以下反應(yīng)使甲基(―CH3 )結(jié)合在硅晶片表面的物質(zhì)。 該化學(xué)式左邊的ho–Si≡被稱為硅烷醇基，存在于si的氧化物( SiO2)的表面，使表面呈親水性。 在大氣中，在Si的結(jié)晶表面通常也會(huì)自然地生成氧化膜，所以在Si晶片的表面仍然存在該硅烷醇基。 因此，可以認(rèn)為在HMDS和硅晶片之間一定會(huì)發(fā)生這種反應(yīng)。 晶片表面的兩個(gè)硅烷醇基反應(yīng)一個(gè)HMDS，其結(jié)果是硅烷醇基被甲基這種疏水性傘覆蓋，因此整個(gè)Si晶片表面變?yōu)槭杷孕再|(zhì)。 另外，該反應(yīng)會(huì)產(chǎn)生NH3 (氨)。 當(dāng)然，對(duì)于沒有硅烷醇基的表面，不能通過HMDS進(jìn)行疏水化。 那么，存在硅烷醇基的表面(例如帶有自然氧化膜的Si晶片或CVD膜的表面)是親水性的，因此使用以水為主要成分的顯影液(例如正型抗蝕劑用的顯影液)時(shí)，顯影液容易浸入與晶片表面抗蝕劑之間。 由此，產(chǎn)生顯影時(shí)抗蝕劑的圖案剝離的問題。 HMDS處理的作用在于將晶片表面疏水化，防止顯影液的浸入。 這樣，抗蝕劑難以剝離，因此有時(shí)也被稱為“HMDS處理會(huì)改善抗蝕劑的密合性"。
智能型HMDS涂膠機(jī)，自動(dòng)HMDS涂膠鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù)

內(nèi)腔尺寸：300×300×300、450×450×450、550×550×600（mm），可定制

材質(zhì) ：內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼，外箱采用冷軋板噴塑或不銹鋼，

溫度使用范圍：80-200℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：≤±0.5

真空度：≤100pa（1torr）
時(shí)間設(shè)置：精度1S

潔凈度: 設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

電源及總功率: AC 220V±10% / 50HZ     

控制儀表: 人機(jī)界面

擱板層數(shù): 一、二層

HMDS控制：可控制HMDS藥液添加量

真空泵： 無油渦旋真空泵（多種可選）
保護(hù)功能：溫度與程序鎖定功能，HMDS泄漏報(bào)警功能，氣體管路預(yù)熱功能，儲(chǔ)液罐低液位提示功能，自動(dòng)加液功能等。