清潔烤箱，無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

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更新時間：2025-09-16
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清潔烤箱，無塵烤箱簡述

無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

無塵烤箱原理
無塵烤箱配備HEPA過濾器，以保持爐腔無顆粒。 HEPA過濾器（高效微粒捕獲）現在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過濾系統，或任何需要減少或去除亞微米微粒的應用。 HEPA過濾器具有隨機定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過濾器的厚度）非常大。

通過HEPA過濾器的氣體必須流過的通道不是直的，而是非常曲折的。隨著顆粒對纖維的影響并粘附在纖維上，通道變得更小并且過濾器的效率提高。無塵烤箱以及LCD行業的特殊輸送爐中使用這些過濾器。為了保護過濾器不會在烤箱中過熱，實施了用于過濾器的特殊保護系統。 HEPA過濾器在正常條件下保持其在烤箱中的效率一至數年。 HEPA不需要任何清潔或維護來保持這種效率。無塵烤箱用于半導體行業。

清潔烤箱特點

1、用于烘烤非光敏聚酰亞胺（PI）的清潔烤箱，在干凈的環境中處理集成的HEPA過濾器。溫度高達350°C 溫度。氧氣可以保持<20ppm。可編程控制器。內部尺寸可自定義。

2、可以提供與PC的數據耦合，這允許長期數據存儲以及統計過程控制SPC，配方管理和過程可視化。

3、強制送風循環方式，雙風道循環結構，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統，從而得到高精度溫度控制。

4、可實現智能化生產要求。SECS / GEM是用于設備到主機數據通信的半導體設備接口協議。在自動化工廠中，接口可以啟動和停止設備處理，收集測量數據，更改變量并為產品選擇配方。
無塵烤箱，智能無塵烤箱基本參數
1、溫度范圍：RT-200/450℃;
2、溫度均勻度：±2℃;
3、溫度波動度：±0.5℃；
4、溫控精度：±0.1℃;
5、潔凈度：100/10級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風水平層對流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與潔凈度。

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清潔烤箱，無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

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