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等離子去膠機，等離子表面處理機采用國內*射頻源，其電磁兼容性能優良、高頻輻射小，符合國家環保規定。本機外形美觀大方，操作簡便。等離子去膠機，半導體工藝表面處理機適于對基片進行去膠、清洗等工藝。該設備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點。
產品型號：廠商性質：生產廠家更新時間：2025-09-16訪 問 量：3065
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等離子去膠機，等離子表面處理機簡介
等離子去膠機的真空腔采用石英管結構，適于對基片進行去膠、清洗等工藝。該設備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點。等離子表面處理機采用優射頻源，其電磁兼容性能優良、高頻輻射小，符合國家環保規定。本機外形美觀大方，操作簡便。
等離子去膠機，等離子表面處理機主要配置及技術指標：
l、電源：單相220V 50Hz，2KW
2、射頻源：國產， f=13.56MHz 50～500W連續可調，全自動匹配
3、氣體控制：氧氣和氮氣氣兩路，美國進口浮子流量計控制
4、真空獲得方式：2L機械泵
5、真空度：優于-100KPa
6、氣體流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、產能：每次20片（2"-4"）
9、觸摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自動/手動，自動模式下可實現一鍵完成整個工藝過程
l1、整機采用松下plc和觸摸屏控制
12、反射自動匹配
a、zui大負荷電流：10ARMS
b、zui大負荷電壓：200VRMS
c、傳輸效率：>90％
d、匹配時間：3～5s
e、可匹配阻抗實部范圍：1～500Ω
f、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
g、主電容：空氣電容
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